Intel CPU芯片工厂已有多台EUV生产设备 数量守密
发布时间：2022-02-17 15:45:16 所属栏目：产品 来源：互联网
导读：过去几年中Intel在芯片工艺上被认为落后于台积电、三星，一个重要原因就是没有及时跟进EUV工艺，让两家对手抢先量产了7nm、5nm等工艺，不过Intel这一年来变化很大，也对EUV光刻工艺上心了，加速推进新工艺量产。 1月底，Intel宣布了一批EUV设备进厂，不过当
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过去几年中Intel在芯片工艺上被认为落后于台积电、三星，一个重要原因就是没有及时跟进EUV工艺，让两家对手抢先量产了7nm、5nm等工艺，不过Intel这一年来变化很大，也对EUV光刻工艺上心了，加速推进新工艺量产。 1月底，Intel宣布了一批EUV设备进厂，不过当时进场安装的是欧洲爱尔兰的Fab 34晶圆厂，那是一台光刻胶显影设备(lithography resist track)，将与EUV极紫外扫描仪搭档，首先为硅晶圆覆上精密的涂层，然后进入EUV扫描仪，进行曝光，接着晶圆回到光刻设备，再进行一系列的高精密光显影、清理操作。 爱尔兰的Fab 34晶圆厂未来会量产Intel 4工艺，也就是之前的7nm工艺，这是Intel首个使用EUV光刻机的工艺，2023年的14代酷睿Metor Lake处理器会首发该工艺。 不过Intel在EUV光刻机上的野心很大，重点会放在下一代EUV光刻机上，已经抢先订购了NA 0.55高数值孔径EUV光刻机，据说成本高达3亿美元，约合19亿元。 相比目前NA 0.33的EUV光刻机，Intel购买的新一代光刻机可以量产更先进的CPU工艺，未来的20A、18A工艺都会用上，最快2025年量产。 （编辑：拼字网 - 核心网） 【声明】本站内容均来自网络，其相关言论仅代表作者个人观点，不代表本站立场。若无意侵犯到您的权利，请及时与联系站长删除相关内容! |
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